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邁可諾技術有限公司

主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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產品圖片 產品名稱
RTP800V國產立式快速退火爐 8寸真空
RTP800V國產立式快速退火爐 8寸真空
簡單介紹:國產立式快速退火爐 8寸真空,RTP800V,使用多溫區控溫,可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平。科學的波長分布保證半導體材料可有效吸收。
產品型號:RTP800V   所在地:武漢市   更新時間:2025-04-16
參考價:面議 詢價留言
RTP500SV國產小型桌面式快速退火爐 4寸真空
RTP500SV國產小型桌面式快速退火爐 4寸真空
簡單介紹:國產小型桌面式快速退火爐 4寸真空,RTP500SV,使用多溫區控溫,可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平。科學的波長分布保證半導體材料可有效吸收。
產品型號:RTP500SV   所在地:武漢市   更新時間:2025-04-16
參考價:面議 詢價留言
RTP500Z國產小型桌面式快速退火爐 4寸非真空
RTP500Z國產小型桌面式快速退火爐 4寸非真空
簡單介紹:國產小型桌面式快速退火爐 4寸非真空,RTP500Z,使用多溫區控溫,可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平。科學的波長分布保證半導體材料可有效吸收。
產品型號:RTP500Z   所在地:武漢市   更新時間:2025-04-16
參考價:面議 詢價留言
TC-20TC-Wafer校準儀
TC-20TC-Wafer校準儀
簡單介紹:TC-Wafer校準儀是一款專注晶圓溫場均勻性測量的儀器,適配市場上大多數主流廠家生產的RTP設備。
產品型號:TC-20   所在地:武漢市   更新時間:2024-05-31
參考價:面議 詢價留言
RTP-3S01RTP-3系列快速退火爐
RTP-3S01RTP-3系列快速退火爐
簡單介紹:RTP-3系列快速退火爐,采用紅外輻射加熱及冷壁技術,可實現對實驗材料的快速升溫和降溫
產品型號:RTP-3S01   所在地:武漢市   更新時間:2024-05-30
參考價:面議 詢價留言
AS-OneAS真空快速退火爐
AS-OneAS真空快速退火爐
簡單介紹:AS真空快速退火爐,性能ZYUE,可搭配分子泵實現高真空下熱處理工藝。Z高溫度1500 ℃,Z快升溫速率200℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準確。
產品型號:AS-One   所在地:北京市   更新時間:2024-05-17
參考價:面議 詢價留言
AS-Micro真空快速退火爐
AS-Micro真空快速退火爐
簡單介紹:AS-Micro真空快速退火爐,性能,可搭配分子泵實現高真空下熱處理工藝。zui高溫度1250 ℃,zui快升溫速率250℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準確。
產品型號:AS-Micro   所在地:北京市   更新時間:2024-05-17
參考價:面議 詢價留言
Solaris 150UV快速退火爐
Solaris 150UV快速退火爐
簡單介紹:美國RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%,處理的大尺寸可以達到200mm,溫度可以達到1200攝氏度,處理過程可以在真空環境或者惰性氣體的環境中執行,做多可支持4~6路進氣,可以用到的氣體包含N2,O2,N2H2,Ar和H2。
產品型號:Solaris 150UV   所在地:北京市   更新時間:2024-05-17
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Solaris Eclipse快速退火爐系統SS
Solaris Eclipse快速退火爐系統SS
簡單介紹:快速退火爐系統SSI是一個簡單穩定的熱處理系統,適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結構的快速熱低溫退火(RTA),(如電子級硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導體、陶瓷等等)。
產品型號:Solaris Eclipse   所在地:北京市   更新時間:2024-05-17
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Solaris 100 /150/200SSI快速退火爐
Solaris 100 /150/200SSI快速退火爐
簡單介紹:SSI快速退火爐系統是一個簡單穩定的熱處理系統,適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結構的快速熱低溫退火(RTA),(如電子級硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導體、陶瓷等等)。
產品型號:Solaris 100 /150/200   所在地:北京市   更新時間:2024-05-17
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